Оборудование для анодирования и окисления
Полностью автоматическое оборудование для анодирования (серия JYC-AO-)
Создан для анодирования алюминиевых-магниевых сплавов
Электронные изделия 3C (корпусы для телефонов и ноутбуков), автомобильные колеса и детали конструкций аэрокосмической отрасли. Эти компоненты из алюминиево-магниевого сплава требуют поверхностной оксидной обработки. Наше полностью автоматическое оборудование для анодирования предназначено для них. Мы можем выполнить анодирование серной кислотой (тип II), твердое анодирование (тип III), а также анодирование щавелевой или хромовой кислотой. Толщина оксидной пленки: стандартный тип от 5 до 25 микрон, жесткий тип от 25 до 100 микрон. После герметизации устойчивость к солевому туману превышает 336 часов согласно ASTM B117. Это полностью соответствует MIL-A-8625F и ISO 10074. Мы обслуживаем таких крупных OEM-производителей, как Apple, Dell, HP, Huawei, Asus, Sony и Lenovo, занимающихся анодированием. Наши линии сертифицированы Apple и Huawei.
Материалы и конструкции для точного контроля
Во всей линии используются рамы из нержавеющей стали SUS304 и резервуары из полипропилена. В системе подъема используются немецкие серводвигатели SEW и системы позиционирования Pepperl+Fuchs WCS. Точность повторного позиционирования составляет ±1 мм. В основных резервуарах для анодирования используются чиллеры с титановыми теплообменниками для совместного контроля температуры. Стандартное анодирование контролируется при температуре от 18 до 22 градусов с точностью ±1 градус. Жесткое анодирование контролируется при температуре от -5 до 5 градусов с точностью ±0,5 градуса. Перемещение катода или импульсное выпрямление улучшают однородность толщины пленки. Стабильно работают линии на предприятиях Foxconn и Kersen Technology.
Три основных преимущества
Во-первых, толщина пленки одинакова.
Используются двойные катоды и конструкции вспомогательных катодов с компьютерным-моделированием распределения электрического поля. На сложных деталях с глубокими отверстиями и канавками отклонение толщины пленки контролируется в пределах ±10%.
Во-вторых, контроль температуры является точным.
В резервуарах для твердого анодирования используются системы циркуляционного водяного охлаждения на основе этиленгликоля и испарители с титановыми трубками. Скорость охлаждения составляет 2 градуса в минуту. Это гарантирует, что ванна не перегреется при высоких плотностях тока. Никакого припудривания или горения не происходит.
В-третьих, система полностью автоматизирована и интегрирована с ПЛК и MES.
ПЛК Siemens автоматически выполняет всю последовательность: обезжиривание, щелочное травление, нейтрализация, анодирование, окраска и герметизация. Все данные о токе, напряжении, температуре и времени загружаются в режиме реального времени. Каждая стойка прослеживается.
Что часто спрашивают покупатели
Покупатели спрашивают нас: «Клиенты 3C или автомобильных алюминиевых деталей предъявляют очень высокие требования к качеству и постоянству. Какого уровня вы можете достичь?» Максимальный размер заготовки 2000×800×500 мм. Нагрузка на одну стойку составляет от 100 до 300 кг. Источником питания является высокочастотный импульсный выпрямитель. Формы сигналов включают прямую, обратную и импульсную. Плотность тока стандартного типа составляет от 1 до 5 А/дм². Для жесткого типа это от 2 до 8 А/дм². Варианты уплотнения: герметизация горячей чистой водой (от 96 до 98 градусов) или холодная герметизация (система фторида никеля).
Технические характеристики
|
Параметр |
Спецификация |
|
Стандартная толщина анодирующей пленки |
5 – 25 µm |
|
Толщина жесткой анодирующей пленки |
25 – 100 µm |
|
Испытание солевым туманом (после герметизации) |
Больше или равно 336 ч (ASTM B117) |
|
Точность позиционирования |
±1 мм |
|
Стандартная температура анодирования |
18–22 градуса (точность ±1 градус) |
|
Температура жесткого анодирования |
-5 – 5 градусов (точность ±0,5 градуса) |
|
Отклонение толщины пленки |
Меньше или равно ±10% |
|
Максимальный размер заготовки |
2000×800×500 мм |
|
Загрузка одной стойки |
100 – 300 кг |
|
Плотность тока (стандартная) |
1–5 А/дм² |
|
Плотность тока (жесткая) |
2–8 А/дм² |
|
Применимые стандарты |
MIL-A-8625F, ISO 10074 |
горячая этикетка : оборудование для анодирования и окисления, производители оборудования для анодирования и окисления в Китае, поставщики, завод, оборудование для анодирования, Оборудование для анодирования и оксидирования, Автоматическое оборудование для анодирования и оксидирования Ano 4 o, Оборудование для твердого анодирования, Оборудование для микродугового окисления, Оборудование для обработки Т
Предыдущая статья
БесплатноВам также может понравиться
Отправить запрос